浙江镀膜设备

阳极电压：80-200V
阳极电流：0-5A
离子束流：1200 mA；
均匀区：Φ65cm；
不均匀性：±20%；
工作距离（距源出口）：500mm
工作气体：氩、氧 
冷却方式：自然冷却
安装方式：内装
适用设备： 630-Φ1000mm

离子源是使中性原子或分子电离，并从中引出离子束流的装置。它是各种类型的离子加速器、质谱仪、电磁同位素分离器、离子注入机、离子束刻
蚀装置、离子推进器以及受控聚变装置中的中性束注入器等设备的不可缺少
的部件。近年出现对带电粒子通量的研究的趋势，主要是将之应用于空间离子推进器，等离子和离子加速器表面处理。此外，要求重视微电子电路和电子加工设备的设计与制造，以改善由聚合物和其他绝缘体结合的基板镀膜强度。电磁场离子束加速器能产生高于电流强度数百倍的静电加速度。因此，等离子加速器电磁场内的封闭漂移电子作为一个发达的高电流离子束源，可用于工业应用及相关的表面改性和制造薄膜。  本文主要对霍尔离子源的结构进行设计，借鉴国内外离子源的结构构造与特点，设计了霍尔离子源结构设计方案。对主要应用离子源的工作原理进行简要的阐述。对本离子源的部件分布与作用等进行了制图并分析。  本方案中主要对霍尔离子源水冷系统、阳极、阴极及气路的分布与构造制图并分析。

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  本公司技术力量雄厚，设备精良，检测手段完备，并能根据用户要求设计制造各种真空成套设备。

Enterprise brief introduction

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"Quality first, credit standing" is our business purpose, warmly welcome customers at home and abroad to negotiate business and establish technical and business cooperation.

The company technical force is abundant, well-equipped, detection means complete, and can according to user requirements design and manufacture all