供应PLD真空镀膜真空镀膜真空镀膜

1、            结构

（1）   真空室结构：由主真空室、过渡真空室、磁控溅射室组成，每一真空室均

    相对独立，真空室之间装有电气动高真空闸板阀。

（2）   主真空室：为激光镀膜提供超高真空环境，尺寸：Φ400×500；主真空室

   （靶室）设计为圆柱形，内部设有基片安装架及基片辅助加热装置、靶材安装架；靶

    室周边设置有激光入射窗口、观察窗口、抽真空法兰接口、真空测量接口、电极法兰

接口、离子束炉源接口及预留接口，接口法兰均采用ISO-CF高真空法兰标准，基片

加与靶架均可上下调节。       

（3）   过渡真空室：主要是保证样品传递过程中不破坏超高真空靶室内的真空，

    尺寸：Φ300×300，设计为圆柱形结构。内部设有样品交接过程中的过渡安装架，样

    品架可升降可旋转。预留与手套箱联接法兰接口。       

（4）   磁控溅射靶室：可安装多只磁控靶，并配有进气装置，方便为基片镀制多

层复合膜，尺寸：Φ200×300，设计为圆柱形。

（5）   样品及靶的传递与交接均通过磁力传递装置与机械手完成，均为外部操作。

可选配置：a 手套箱－用于装卸基片及靶材，并可存储相关备品。

              b 激光控制器－可精度控制激光的扫描范围及形状。

              c 装卸料室－用于在不破坏系统真空的情况下装取工件。

2、            抽真空部分

（1）   激光靶室抽空采用二级真空泵，主泵选分子泵，型号FB-1300C，水平安装；

前级泵选双级旋片泵，型号为VD301，主抽阀选用CCQ-200电气动闸板阀。

（2）   过渡真空室主抽泵选用FB-600复合分子泵，垂直安装；前级泵选用ND201

    机械泵，主阀选用CCQ-160电气动闸板阀。

（3）   磁控靶室主抽泵选用FB-600复合分子泵，垂直安装；前级泵选用ND201

机械泵，主阀选用CCQ-160电气动闸板阀管路抽高真空。

3、            测量部分

（1）   激光靶室内超高真空测量选用金属规，低真空规安装在分子泵前级。真

    空计：全量程真空计，型号：5201，测量范围：大气~10-8Pa。带控制输出，可实现

    自动控制。

（2）   过渡室与进料室均选用ZDF-5227复合真空计，测量范围：大气~10-6Pa。

（3）   靶室极限真空度：<2×10-6Pa。系统连续烘烤48小时后测量。

（4）   靶室工作真空度：<5×10-6Pa。在不破坏靶室真空的情况下，达到工作真

    空度的时间小于3小时。

（5）   靶室与过渡室从大气抽至5×10-3Pa≤20min（冷态下）

（6）   靶室内真空升压率（无工件时）：不大于0.8Pa/h

（7）   基片温度由铠装热电偶测量，温度范围：常温～1500℃

（8）   激光靶室与磁控靶室内进气压力由电容式薄膜真空计测量。

4、            控制部分

（1）   所有电源、仪表及控制电路均安装在一独立的电控柜内，并设有操作面板，

    标识清楚，便于操作。

（2）   温控部分：加热装置温度由室温~800℃可控可调。温控仪选用EP93程序

    控制仪，并配合可控硅调功模块，可实现线性控温。

（3）   控温精度：±2℃

（4）   温度均匀性：±5℃。

（5）   加热及控制方式：采用高温合金丝绕制于耐高温绝缘盘内进行加热，并设

置热屏蔽层，保证热量均匀辐射在基片上。

（6）   照明装置：靶室与过渡室内各设置一照明灯，便于观察室内情况。

（7）   操作面板上印制工作原理图，并配有工作指示灯，便于显示各部件的工作

    情况，避免发生误操作。

（8）   开关按键、继电器等元器件均选用品牌产品，以保证控制系统的可靠性。

（9）   电路部分配置必须符合电工标准，采用强弱电分离，设置漏电保护开关，

    并可靠接地。