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1.蒸发镀膜与手套箱环境有机融合,实现蒸镀、封装、测试等工艺无缝对接。
2.多组蒸发源,兼容有机与金属蒸镀,广泛用于OLED/PLED,钙钛矿薄膜等研究系统。
型号
ZHDS-400
真空腔室
L400×W400×H500,前后开门结构,SUS304不锈钢材质,
真空系统
复合分子泵+直联旋片泵,超高真空插板阀,“两低一高”数显复合真空计
极限真空
优于6.0×10-5Pa(如需获得更高的真空度可选择进口真空泵组)
基片台
≤120mm;基片台加热:室温~300℃;基片台旋转及光控定位
蒸发源
8组蒸发源(舟式源或挂丝源,兼容有机材蒸发)
膜厚控制
掩膜及膜厚控制系统:定制掩膜机构
采用晶振膜厚仪在线监测、控制膜厚
手套箱系统
手套箱箱体尺寸:大箱体L1800×W750×H900mm
箱体泄露率<0.05vol%/h,标准环境箱体内水、氧指标<1ppm
控制方式
镀膜系统采用手动按钮控制,手套箱系统采用PLC+触摸屏控制
报警及保护系统
对泵、电极等缺水,过流过压,断路等异常情况进行报警并执行相应保护措施;完善的逻辑程序互锁保护系统
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