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硅片回收介绍硅薄膜电池镀膜过程：
48  片的炉子，炉子里面有铝板（作为电极），每两片玻璃板夹住一片金属板，有一个电极腔，将玻璃片放入电极后，将电极腔关上，但是电极腔不是真空绝缘的，而是透气的，先将电极腔置入预热室，升温  2.5  小时，使温度达到沉积温度。然后将电极腔从预热室中取出，在几分钟内转移到沉积室中，再进行沉积，沉积时间为 5  小时，沉积完后再转移到 降温室中降温  2.5  小时。因此，样品有两次在高温下暴露大气的过程，但因为时间较短，因此问题不大。样品尺寸为 12英尺，每片的初始效率可达到  80W，稳定效率大于 60W。效率在 5.5%。在三个真空室（升温、镀膜、降温）之间有导轨运输电极腔，在两端有上玻璃设备和卸玻璃设备。在卸玻璃设备之后又传送台，将镀膜玻璃传到下一道激光光刻工位。
d)  第二次激光切割：
此次激光光刻为切断非晶硅膜，膜面向下，激光从下方入射到样品表面，这样做的好处是可以使得激光刻蚀所留下的残渣向下落在地上。
e)  磁控溅射镀铝：
镀铝使用磁控溅射法，铝靶为圆柱形，玻璃水平放置，真空系统使用扩散泵，扩散泵使用液氮冷却，
f)  第三次激光切割：切割铝条
g)  封装：EVA+双层玻璃。可是用传统层压设备封装。

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