品牌	真空磁控溅射镀膜机

设备特性：

2.磁控溅射镀膜机，主要用于各类型功能型膜层。根据工艺需求我公司开发了100/125/150直流平面阴极，70/150旋转阴极。对旋转阴极和平面阴极磁场进行了Ansoft磁场模拟分析并做了优化，磁场设计科学合理。装配时严格控制磁铁表面磁感应均差。工艺气体系统采用流量计严格控制气体流量配比，混气系统采用复杂的两级混气，腔体内部工艺管路布局开孔科学。使蒸炉膜层均差控制在10%以内，单片膜层均差控制在5%以内。

 3.控制系统人机界面友好大方，对工艺生产过程涉及的各个点进行实时监控，功能完善，安全可靠，控制系统内部各种完善的自锁和互锁**大限度的防止因人为误操作引起的对设备的损坏。工艺生产过程可实现全自动控制，半自动控制和手动控制。可以自动记录一段时间内工艺参数，方便用户查询，调用和修改。

设备规格：

1.  常用规格800x800,900x900，1100x1200,1250x1250，1400x1600,1600x1800。

2.  设备尺寸根据客户镀件以及产量量身定制。直径500mm-1600mm，高度500mm-1800mm。

设备基本配置：

1.设备配置1-3对中频旋转阴极/平面阴极，根据客户需要中频电源/直流电源采用国内外一线品牌。

2.真空室腔体采用立式前开门结构，全304太钢焊接制作。整机盘管冷却结构。外观抛光/拉丝处理。

3.抽气机组扩散泵/分子泵+维持泵+罗茨泵+旋片泵，泵组均采用国内外一线品牌。设备主阀，真空管道系统全不锈钢制作。

4.转架公自转采用行星齿轮结构/单公转机构，全不锈钢加工制作。不锈钢镜面衬板，腔体内部加热室温-300°C（如成膜工艺需要加温）。

5. 控制系统采用 12 英寸触摸屏 + 三菱 / 西门子系列 PLC ，低高压电气元器件均采用国内外一线品牌。实时对工艺参数进行监控，并记录工艺参数。手动 / 自动两种模式，可实现手动控制，半自动控制，全自动工艺控制。